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玉田 正男; 越川 博; 細井 文雄; 諏訪 武; 臼井 博明*; 小坂 篤史*; 佐藤 壽彌*
Polymer, 40(1), p.3061 - 3067, 1999/00
トリフェニルアミンメチルアクリレート薄膜を230Kから290Kの範囲のインジューム・スズ酸化物基板上に真空蒸着により作製した。エレクトロルミネッセンス素子の構築を目指して、この薄膜に引き続き真空中でUV光を照射し重合させた。真空中での薄膜の重合をフーリエ変換赤外反射吸収法により調べた。UV光の照射により重合率はほぼ100%に達した。基板温度が高い場合、重合時間は短縮されたが、薄膜表面の凹凸が増加した。重合のメカニズムはモノマー消費速度の次数からラジカル重合機構で説明が可能であった。数平均分子量はUV強度が減少するに従い増加した。
玉田 正男; 大道 英樹; 奥居 徳昌*
Thin Solid Films, 268, p.18 - 21, 1995/00
被引用回数：34 パーセンタイル：84.61(Materials Science, Multidisciplinary)赤熱フィラメントにより重合が誘起される蒸着重合法により、エレクトロルミネッセンス素子のホール移動層として利用可能なポリビニルカルバゾール薄膜の作製を試みた。赤熱フィラメントの存在下、N-ビニルカルバゾール(NVC
)を100nmの厚みの銀をコーティングしたスライドガラス基板の上に蒸着重合した。蒸着重合とアニールの過程を赤外反射吸収法によりその場観察した。NVCはフィラメント温度が2300K、基板温度が266Kの場合、最もよく基板に付着した。上記条件で蒸着重合した薄膜を285Kでアニールすることにより、重合はさらに進行した。この製作により得られたポリビニルカルバゾール薄膜の数平均分子量は1.1
10
で、重合収率は88%であった。
林 香苗; 来島 利幸*
JAERI-M 82-212, 69 Pages, 1983/01
コンピュータによるGPCのデータ処理システムを完成した。すなわち、測定結果を一旦カセットテープに記録し、これを計算機処理を行って常にlog(分子量)を横軸とした規格化されたクロマトグラムが得られるようにした。この方法により測定条件(ポンプ速度、カラムの劣化など)の変動に無関係に常に正しい波形のクロマトグラムが得られ過去のデータとの比較が可能となった。その他の測定操作の簡便化、データの保存、再処理が容易になったなど多くの利点が生じた。
